第273章 光刻机与刻蚀机
第273章 光刻机与刻蚀机 (第2/3页)
不达标，性能参数跟不上生产90纳米芯片需求的话，那你也生产不了90纳米芯片或者更先进的65纳米芯片。
所以想要单单研发出光刻机就号称解决90纳米制程工艺这肯定是在开玩笑。
当然在17个核心半导体生产设备中，光刻机确实是最关键的一个东西，也是研发难度最大的一个东西。
可以说只要解决光刻机的问题，那几乎已经相当于半只脚踏入了90纳米制程工艺也是事实。
“雷布斯，我们确实是没钱，但目前不需要那么多设备一起去解决啊，目前可以先研发更为重要的刻蚀机与光刻机。”
说到这里的林晨略微顿了一下，似乎陷入了沉思，但很快林晨又接着说道：
“其中刻蚀机我们可以联合忠芯国际那边一起研发，不必自己全部承担着。
虽然我们和忠芯国际是竞争对手，但也可以一起合作研发刻蚀机，然后一起共享该设备啊，到时刻蚀机的销售利润按股份分润就行。
其中刻蚀机人才方面我倒是有所推荐，听说曾经在美迪国应用材料与泛林半导体任职。
曾多次主持刻蚀机的研发，手握200多项刻蚀机专利的尹志晓在忠芯国际江海舟的劝诫下回国了。
而且不只是他一个人回国，他还带回来了应用材料的10位老骨干人才。
听说他们要在大夏成立一家名叫中微的半导体设备公司，彻底解决大夏半导体设备落后的问题。
目前他们的公司正处于筹划阶段，我们也许可以掺一脚与忠芯国际一起融资入股支援国产刻蚀机的研发。
毕竟我们三方联合才是最佳的选择，只有这样才能更快地解决国产刻蚀机的落地问题。”
说到这里的林晨也是感慨颇多。
前世尹志晓带人成立的中微公司算是国内半导体设备界的一面旗，毕竟他们成功研发生产了适用于5纳米制程工艺的刻蚀机，这不是大夏半导体设备的骄傲是什么？
不过大夏的刻蚀机方面虽然不落后于人甚至是世界一流，但芯片生产是一
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