第276章 向光刻机开刀！
第276章 向光刻机开刀！ (第2/3页)
么的困难。
在这种情况下，能成为院士就代表着走到了研发领域的顶点，是无数科研人员毕生所追求的最高目标。
“咔嚓咔嚓咔嚓咔嚓咔嚓……”
在林晨与夏科院陆院长以及几位院士走上舞台的时候，记者们已经按下了手中的相机，将他们走进大门的一幕拍摄了下来。
就这样一路伴随着灯光的闪烁，用了几十秒终于来到了舞台的中央。
“很高兴记者嘉宾们参加这场新闻发布会，这场新闻发布会的内容就是正式对外公布我们夏科院和曙光科技合作的一场新闻发布会。”
此时说话的是夏科院的陆院长，只见此时陆院长停顿了一下后接着说道：
“至于这次合作是什么，合作的内容主要就是我们夏科院与曙光科技将会联合成立光刻机研发团队。
共同研发第5代光刻机，也即是ArFi浸没式DUV光刻机！
这第5代光刻机如果研发完成，那么我大夏将会成为世界第二个能生产第5代浸没式光刻机的国度。
也代表着我大夏将会拥有生产90纳米与65纳米芯片的能力。”
面对夏科院陆院长的话语，现场绝大部分记者自然是一脸懵逼。
无他，光刻机这东西的知识实在是太深奥了，没有了解过半导体与了解过光刻机的人自然是对啥是第5代浸没式光刻机并不了解。
浸没式光刻机是当前世界最先进的光刻机，虽然它本质上仍然是AeF干式光刻机，采用的光源波长仍然是193nm。
但193nm光源波长经过水的折射之后，光源波长能降低到134nm，最终拥有更加精细的加工能力。
就像本来一把粗糙的刀口变得更加细小，所以浸没式光刻机技术相当神奇。
堪称能化腐朽为神奇，能用取巧的办法省掉无数功夫，也省下了无数的钱财。
然而面对如此神奇的技术林晨其实并不怎么满意，因为如果光刻机其他零件精度与加工精度乃至零件质量技术能做得好。
那相当于134nm光源波长浸没式光刻机理论上是能加工7纳米制程工艺的芯
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