第276章 向光刻机开刀!

    第276章 向光刻机开刀! (第3/3页)

片,但理论是理论实际是实际。

    因为光刻机并不是你将光源波长做到134nm,然后靠着134nm光源波长最小能生产7纳米芯片的能力就能生产7纳米芯片。

    光刻机它是一个整体,光刻机一共有数万个精密零件,任何一个零件或系统的不足都会影响最终的光刻精度。

    就比如你有一把加工精度达到7纳米级别的激光刻刀,有了它理论上你可以刻画精度达到7纳米级别的艺术品。

    但实际当你拿到那激光手术刀后,你会发现刀是好刀,但自己握着激光刻刀的手一直乱抖乱动,根本就控制不了7纳米的雕刻精度。

    而且更头疼的是你会发现你的眼睛看不清楚7纳米的东西,就算通过对焦能看清到7纳米的东西,

    但如果你的手轻微动一下,那会愤怒地发现自己又看不到7纳米级别的东西了,你需要反复地对焦。

    而且最头疼的是就算手不抖了,眼睛也看好了,你会发现你的身体体质其实并不太好。

    往往工作一段时间就要休息一下,让人家维修更换身体零件。

    而别人呢,能连续工作几年都没啥事,而你往往一两个月就必须检修更换零件,这身子骨对比别人真是相当的弱。

    所以就算你有了加工精度达到7纳米的激光手术刀,但你却做不到那样的雕刻精度,一把好刀在你手上蒙尘了。

    在这种情况下,这也是浸没式光刻机能做到7纳米级别的理论加工精度。

    结果夏科院陆院长却声称能达到90纳米与65纳米芯片的原因。

    之所以号称能做到90纳米与65纳米,而不是号称能做到最高7纳米。

    这是因为以大夏的材料技术与加工精度最高只能65纳米,更进一步已经没办法了。

    想要突破需要大夏的加工精度或材料技术与检测技术全部达标才行,而这也是前世为什么高端光刻机为什么那么难突破的原因。

    所以前世高端光刻机那么难突破除了光刻机专利壁垒因素之外,更重要的原因是大夏材料技术与加工精度技术与检测技术不达标。

    (本章完)