第279章 90纳米与65纳米制程工艺
第279章 90纳米与65纳米制程工艺 (第3/3页)
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首先最先推出的应该是90纳米制程工艺级别的第5代浸没式光刻机，这第5代浸没式光刻机预计落地时间是在2004年结束之前。
至于65纳米制程工艺方面，我们预计推出的时间是2005年结束之前。
也就是说我们是计划用一年时间达到90纳米，然后用两年时间将光刻机推进到65纳米的层次。”
“咔嚓咔嚓咔嚓咔嚓咔嚓咔嚓……”
听到陆院长话语的记者们飞速按下了手中的相机按钮，握着笔记本的记者们也是飞速写下了关键的新闻重点。
但这时一个岛国记者缓缓举起了手，那是东京i日报的记者，只见那东京i日报记者获得允许后发问道：
“请问最高65纳米制程工艺的第5代浸没式光刻机研发完成后，你们是否会研发更先进的光刻机呢？”
面对那岛国记者的问话，陆院长笑着说道：
“理论上会继续研发，但未来的事情谁也说不准。”
见此，现场的记者们有些遗憾地按动了手中的相机按钮，拿着笔的记者则记下了陆院长的话语。
而此时发布会进行到这里的时候也差不多了。
接下来林晨与陆院长乃至几位院士和徐端顾教授都回答了一下记者们的问题后，这场新闻发布会很快就结束了。
而记者们也是飞速离开了，随后没有用多久，这场新闻发布会的相关新闻就飞速出现在国内与国外的科技与经济类报纸与媒体当中。
“曙光科技一年拿出30亿研发光刻机！”
这是企鹅门户网站的新闻头条。
“国产光刻机崛起！我大夏或将彻底解决光刻机难题！”
这是新狼门户网站的新闻头条！
“一年30亿光刻机研发资金，曙光科技真的拿得出来吗？”
这是网i易网站的新闻头条。
“30亿研发资金，三位院士数百位高级研发人员加盟，国产光刻机能不能解决？”
这是馊狐门户网站的新闻头条。
(本章完)