第二百一十二章 请先生赴死!

    第二百一十二章 请先生赴死! (第1/3页)

    云帝笑了笑,拿着烟的手指点了点那本工作证。

    程进有些无奈了。

    看个毛线!

    难道工作证里面卿云级别比萧雅更高?

    那他倒是会怀疑这个工作证是不是假的了。

    毕竟高校也是体制,这里面有擢升,比如他,年纪轻轻便做了二级学院的院长。

    但擢升也是有年龄限制的。

    否则以他的‘成就’,立马评上院士都不为过的,不用非得等40岁。

    看着他脸上的迟疑,云帝也是无语了,不耐烦的说着,

    “打开看看!又不费你什么事的。再说了,你一个将死之人,我犯得着骗你吗?”

    程进闻言又是一个白眼。

    虽然他和卿云接触的时间很短。

    但,其实,谁特么的不了解谁啊?

    君子喻以义。

    而他和卿云都是喻于利的小人,这一点他是不会看错的。

    只是说,社会的毒打,让程进很清楚,这个分类是中间地带的,不是非此即彼的。

    卿云图的是在保全他自己的小利基础上,努力在争取国家或者民族的大利。

    黑到至极便是白?

    程进摇了摇头,如卿云所愿的一般,打开了工作证。

    不出所料,他呆住了。

    “这……这……”

    实现了恶趣味的云帝,嘿嘿的笑着,提醒着他,“钢印在哈,伱再看看日期。”

    程进先是将工作证放在腿上,双手在裤腿上用力的擦了擦,这才把工作证捧在手里,仔细看着。

    “1999年?”

    看着上面的日期,程进嘴唇哆嗦了起来。

    云帝乜了他一眼,淡淡的说着,“这个日期,可以把你从摩托骡拉偷图纸的行为,解释为……你懂的。”

    说罢,他叹了口气,望着程进诚恳的说道,“老师,我能为你做的,我都做了。”

    程进合上工作证将其双手按在自己胸膛上,闭上了眼睛,不过眼泪却从眼角处流了出来,喃喃的说道,“你早就算好了的。”

    也不管程进看不看的见,卿云对着他摇了摇头,“不是,坦率的说,是前两天临时起意的。”

    他拍了拍面前的中控台,继续说着,“原本我的计划里,此刻就是送你上路的时间。只不过……”

    望着睁开眼睛的程进,云帝笑了笑,“毕竟师生一场,我担心以后你阴魂不散的,让我晚上睡不着觉。

    而且,老实说,你成为烈士,我的利益可以最大化。”

    程进抹了抹脸庞,笑了,“谢谢!”

    抽了一张纸巾擤擤鼻涕后,他吸了吸鼻子,脸上却浮现起坚毅的神情,“需要我做什么?”

    卿云递过去一张照片,“后天,荷兰有一个半导体行业的峰会,我用炎黄集团的名义搞到了一张邀请函。

    你在明珠港转机的时候,会遇见他,杀了他。”

    程进闻言皱起了眉头,“怎么是他?”

    他的疑惑有很多,比如怎么杀,杀了之后他又该如何,当场自杀?

    但相比起照片上的人而言,这些都是细枝末节了。

    在他看来,这太不可思议了。

    云帝乜了他一眼,“认识?”

    程进回了一个白眼,“废话!我也是干这行的!虽然我确实水了点,但我毕竟是做科研的,行业领域内什么新动向我还是知道的。”

    他手指点了点照片,“林本坚,夷积电高级工程师,在当前193nm光刻光源停滞了二十多年无法突破下,去年提出了浸入式光刻技术,算是一个另辟蹊径的发展方向。”

    说到这里,他摇了摇头,“但是,他的理论,并不被当前的市场所接受。去年提出的时候,没有市场买单。

    现在的路径一共四大阵营,尼康占主导的157nm激光、因特尔BMD摩托骡拉联合的13.5nmEUVLLC、NEC托西巴NTT和IBM联合的1nm接近式X光、朗讯贝尔实验室高的0.004nmEPL和0.00005nmIPL。

    后面两个算是浪漫阵营,纯理论研究,他们就没想过产业化的事情。

    而EUV太超前,短期内根本无法实现。

    我个人还是更看好尼康的干式157nm技术路径。”

    卿云笑了,他懒得和程进扯什么科学英雄史观的问题,更没兴趣和他聊技术路径路径,开口说道,

    “荷兰的ASML正在和林本坚一起共同攻坚浸入式光刻技术。”

    程进闻言摇了摇头,“没用的,浸入式通过水滴折射确实可以跳过157nm,直接做到134nm波长,而后就会被65nm的最高生产分辨率给卡住,到时候怎么办?

    小卿,光刻是要遵循瑞利公式的,λ为光源波长、NA为数值孔径、k为光刻工艺系数,三者共同决定投影式光刻机分辨率CD。

    光刻机的分辨率与光源波长成正比,想要制造出更小的尺寸,就需要缩短光源的波长,这也是光刻机世代演变的核心。

    所以,你不管怎么折射,最终还是要通过光源的波长来解决问题。”

    熟知后事的卿云很清楚,程进说的是对的。

    浸入式、浸没式、浸润式,其光源都是193nm激光器,随后是根据瑞利公式的另一个参数:孔径,来实现精度的提高。

    再之后,便是二次曝光技术,同样是基于193nm的光源。

    而最终,在DUV后,ASM

    (本章未完,请点击下一页继续阅读)