第126章 成本过高的问题，数字掩膜版技术
第126章 成本过高的问题，数字掩膜版技术 (第1/3页)
宏图微电子这边。
纪弘和刘向东、王华新两位院士换好了防护服，佩戴专用的手套和鞋套，来到了芯片产线。
这个时候，这里已经有条不紊的在进行着各项工作了。
光刻机内部各种部件按照既定路线周期性的运动，紫色的光束在在面镜和透镜的作用下或改变形状或改变路线，最终投射到机台上，刻画出图案并完成它最终的使命。
从表面上，这里与其他任何的产线也并无不同，尤其是采用尼康光刻机的产线，那布局都几乎都是一模一样的。
但刘向东和王华新知道，这里的每一个动作都将被忠实的记录下来，这些数据将成为卷耳智能科技未来光刻机系统各个系统以及EDA各个模块训练AI的养分。
“还别说，麻雀虽小，五脏俱全。”王华新也是感叹道：“这里竟然连掩膜版都可以制作。”
纪弘也是感叹，要不说程林峰对宏图原老板周光浩的评价并不准确呢，纪弘认为，他还是想做一些事儿的，只是可能由于某种这边不知道的原因不得以放弃了而已。
原因是什么并不重要，重要的是设备齐备，上下游产业企业也没有丢，这对纪弘来说，那是省了天大的事儿。
“不过，我想的还是天真了。”一圈下来，纪弘也是不断的摇头。
“天真什么？”刘向东和王华新几乎异口同声的说道。
这几天纪弘在做什么，他们清楚的很，尤其是改造方案还是他们两個根据纪弘的需求联合鼎佳微电子设计和改造的。
而且，客户端（也就是设计端）的内测版本的软件他们也见到了——只是描述需求，就能自动化的生成芯片设计各个阶段的方案，简直就是惊为天人。
人只需要根据优化建议或者自己的经验进行微调。
这节省了多少的工作量啊？
与之相比，现在的EDA电子设计自动化软件——还得自己写代码、自己布线、自己设计版图——相比之下简直弱爆了。
要说这东西能够颠覆现有芯片设计和EDA产业，可能还为时过早——因为毕竟才刚刚适用于220nm~140nm级别。
但这样一个思路一旦打开，AI的能力也在逐步提升，尤其是卷耳智能科技得天独厚的类思维相关AI，未来真
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