第131章 十倍精度光刻
第131章 十倍精度光刻 (第3/3页)
精度,既然有这个技术,直接去改造光刻机都比这个更容易。
“来,看看我们的历程吧。”没等杨工回答,纪弘引着于东来看这几天产线在做什么。
“与传统提升工艺的过程不同,”纪弘介绍道:“类思维AI在这里发挥了巨大的作用。
“刻-刻蚀-光刻-刻蚀,也就是LELE这种双重曝光技术之所以引起套刻误差,不能四重甚至更多重的LELELELLE,是因为精度不好把握。
“但,对于我们来说,这反倒是最简单的。对准嘛,机械重复就好了,一次不行那就多来几次。”
这个过程困难吗?
对于一般的产线来说,非常困难。
因为误差有多少,不下产线去检测就不可能知道。
一次光刻之后,按程序移动,然后二次光刻,所有流程结束了,上检测线了,上封测线了,才能知道哪儿出了问题,良率多少,是不是能够满足量产需求。
不能的话,去调整,重复上述过程,直到满足需求。
但宏图微电子这儿呢?就好像里边住了个人。
机台动了一下,光刻尚未进行:“我对准了没?”
“好像还差一点。”
“现在呢?”
“往右一点。”
“这会儿呢?”
“往左一点。”
“现在呢?这回总可以了吧?”
“嗯!刻吧!”
这一刻,精准无比,别说刻三次五次,哪怕十次更多次,只要计算好了,那也完全都没有问题。
当然,真正的过程不可能是描述的这个样子,但如果拟人化的话,大概是这么个意思。
这就叫做精度不够,“微调”来凑。一步不到位,咱慢慢调。
当然,这个慢也是相对的——如果传感数据计算好了,由人来判断和调整,那是真叫慢——光电所的超爆光刻机所面临的就是这个问题。
但这个时候判断是否对准以及做出决策的,是类思维AI工业模型结合机器视觉以及维纳传感,这速度立即就上去了。
……
而于东看着这几天的数据,人有些麻。
这东西还不是一天成型的,从数据中可以明显看出,第一天的时候,双重曝光都还有些费劲,效果很不理想。
但成长贼快——随着一次又一次的尝试,一次又一次的训练,这套系统是越来越强,直到今天自己看到的这样一种十倍精度光刻的效果。
而这说起来还要多亏了王华新院士这个【微纳制造与智能传感技术】国内顶尖专家,如若不然,还真不一定能够达到现在的这种训练效果。