第183章 招揽浸润光刻机之父林苯坚(加更)!
第183章 招揽浸润光刻机之父林苯坚(加更)! (第2/3页)
笑道。
“那你为什么要去IBM公司?”
邱淑侦一脸疑惑地看着陈浩。
“因为IBM公司中,有一个我想要招揽的人才!”
“他的名字叫做林苯坚!”
陈浩说出了他的目的。
“林苯坚?”
“这个人是谁啊?”
“你为什么要招揽他?”
邱淑侦一脸的好奇。
“林苯坚是一个十分厉害的高科技人才!”
“他是我们华夏宝岛人!”
“他在1963年,获得了宝岛大学电机工程学系学士!”
“1970年,他获得了鹰国俄亥俄州立大学电机工程学系博士!”
“博士毕业以后,他进入了IBM公司工作!”
“从普通的研究员干起,一直干到现在的研发经理!”
“自从他当上研发经理以后,他带着研发团队发明出许多世界第一的专利!”
陈浩将林苯坚的基本情况说了出来。
如果没有他的出现,林苯坚将会在2000年,加入宝岛的宝积电,成为宝积电的技术骨干,是宝积电‘研发六骑士’之一!
林苯坚最大的贡献就是发明了‘浸润式微影技术’,成为‘浸润光刻机之父’!
其实,光刻机巨头ASML之所以能够发展起来,成为世界上首屈一指的光刻机巨头,最主要的原因恐怕就是林苯坚发明的‘浸润式微影技术’!
依照摩尔定律,每经过18至24个月的时间,在成本保持不变的情况下,芯片上的晶体管数量便会翻倍,性能亦会实现飞跃式的提升。
然而,这一规律在20世纪90年代却遇到了前所未有的挑战。
当时,尽管樱花国和鹰国的光刻机企业众多,但它们却共同陷入了一片困境。
原因就在于光刻机的光源波长始终无法突破193nm的瓶颈,无法再进一步缩短。
在半导体制造的领域里,光源波长的缩短直接关联着芯片制程的先进性。
樱花国的呢康公司主张采用157纳米F2激光技术,而由鹰国主导的EUV联盟则力推使用极紫外光技术,其光源波长仅十几纳米。
然
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