第一卷 第5章 等离子能量微投影系统
第一卷 第5章 等离子能量微投影系统 (第2/3页)
说了。我们现在最缺的就是光刻机相关的科技。”林奕听到这话，心中一喜，表面却装作平静。
“光刻机？那是什么？”苏清宁皱了皱眉，语气中带着疑惑。
“废土世界的科技水平不是很高吗？光刻机你都不知道？”林奕愣了一下，忍不住问道。
“我们废土世界的科技体系和你们的世界不同，用的术语也完全不一样，所以你最好解释清楚。”苏清宁白了林奕一眼。
“哦，对对对，可能是叫法不一样！简单来说，光刻机就是制造芯片的关键设备，芯片知道吧？它是现代电子设备的核心，没有芯片，电脑、手机、智能设备全都玩不转。而光刻机就是用来生产芯片的工具。”林奕一拍脑门，恍然大悟。
“嗯，听起来是基础工业科技……”苏清宁若有所思地点了点头。
“基础可不简单！这个技术已经被国外卡脖子很多年了，我们国家现在最迫切的需求就是突破光刻机技术，尤其是高精度的。”林奕打断她。
苏清宁听完，眉头微微一挑，似乎对“卡脖子”这种说法有些不解，不过她并没有深究，而是若有所思地自言自语：“原来你说的是等离子能量微投影系统？”
“等离子能量微投影系统？”林奕重复了一遍，光是名字就让他觉得高大上。
“这是我们废土世界用来制造纳米级设备的核心技术。听你描述的功能，应该和你们的光刻机差不多。不过，我们的技术早已超越传统的物理光学成像，改用等离子能量进行三维投影制造。”苏清宁淡淡说道。
“这玩意儿听起来比光刻机牛多了吧！直接纳米级制造？三维投影？”林奕听得目瞪口呆，忍不住脱口而出。
“等离子能量投影系统的核心技术，不是传统的光学或者电子束，而是利用高能等离子体在纳米级材料上的能量激发。通过等离子场的精准调控，我们可以直接将三维投影的设计数据传递到材料上。整个过程不需要光刻掩膜或者多层曝光，效率远高于你们所谓的光刻机。”
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